| NEWS | |
| 2005年4月 | アセトン・ＩＰＡワックス洗浄をダッククリーン（水系）変更に成功 |
| 2005年4月 | 専用パッド（クリーンパットD）で洗浄時間が大きく短縮 |
| 2005年4月 | 社名をファーストダックに変更 |
| 2005年2月 |
東京大学クリーンルーム内チラー配管洗浄に |
| 2005年2月 | 半導体産業新聞に４回目の掲載（２／１６） |
| 2004年11月 | スラリー廃液配管付着スラリーの洗浄に成功 |
| 2004年8月 | ＷＳＣで洗浄後電気代約３％削減 |
| 2004年6月 | クランプの洗浄で製品の品質向上 |
| 2004年5月 | CCDレンズ研磨後洗浄に効果 |
| 2004年4月 | セラミック基板洗浄に効果 |
| 2003年10月 | CMPマシンヘッド洗浄例 |
| 2003年8月 | 大型PVC乾燥機（温度をかけず）でガラス乾燥に成功（小宮山製作所） |
| 2003年5月 | 半導体産業新聞に３回目の掲載（５／２１） |
| 2003年4月 | WSC専用洗浄機導入後スパッタマシン、蒸着機に大きな効果 |
| 2003年3月 | 液晶用ガラス研磨後の洗浄 |
| 2003年3月 | 水系スケール（クロスクリーンWSC）専用洗浄機 |
| 2003年2月 |
ＣＭＰマシン（半導体）ヘッド洗浄システム確立 |
| 2003年2月 | 液晶用素ガラス研磨後洗浄に効果 |
| 2002年11月 | ガラス研磨機部品（ホース他）洗浄 |
| 2002年11月 | 液晶パネル表面研磨後の洗浄に効果 |
| 2002年11月 | シリコンウェハー研磨後洗浄に効果 |
| 2002年9月 | 半導体産業新聞に２回目の掲載(9/25) |
| 2002年7月 | 日刊工業新聞に掲載（７／３１） |
| 2002年7月 | 研磨後のガラスウェハー洗浄に成功 |
| 2002年7月 | SO14001取得工場でWSC採用 ※金属分析追加 |
| 2002年6月 | ウェーハ切断用ワイヤーに付着したスラリーの洗浄（半導体） |
| 2002年6月 | 研磨（ラップ）後のウェーハ洗浄に採用 （半導体） |
| 2002年6月 | 液晶ガラス用研磨加工機の部品に付着したスラリーの洗浄（液晶） |
| 2002年5月 | ジュンツウ21、潤滑経済にWSCの商品紹介が掲載 |
| 2002年4月 | スラリー（シリカ）供給タンク洗浄 （半導体） |
| 2002年3月 | 金型チラー内の洗浄 (プラスチック成型機） |
| 2002年3月 | 貸し出し洗浄機完成 貸し出し予約受付中!! |
| 2002年2月 | マシン周辺部品に付着したスラリー（シリカ）の洗浄 (半導体） |
| 2002年2月 | 半導体産業新聞に掲載（２／６） |
| 2002年１月 | 洗浄機内のスケールを洗浄し洗浄効果が戻る （脱脂洗浄機） |
| 2001年１１月 |
クーリングタワー 配管 洗浄 例 |
| 2001年10月 | 冷凍機チラー内のスケール除去洗浄によりチラー内圧力が戻る。 （クリーンルーム用） |
| 2001年9月 | ＣＭＰセリアスラリー供給パイプ洗浄システム販売開始 （洗浄例１＆例２追加） |
| 2001年8月 | 純水グレード HA-2による シリカ系スラリーの洗浄例２ 追加 （半導体） |
| 2001年6月 | ガラス研磨機に付着（ギア部、配管内他）したスラリー（酸化セリウム）を より簡単に落とせるTK-2の助剤 PC-1、PC-2 完成。 サンプル出荷中 |
| 2001年４月 | シリカスラリーの簡単除去に成功（写真へジャンプ） （半導体） |
| 2001年４月 | CMP用スラリー供給パイプ内に付着したスラリーの洗浄に成功。 システムとして販売予定。 |
有限会社ファーストダック FirstDuck
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